蒸發(fā)式鍍膜機(jī)用蒸發(fā)源是用來(lái)加熱膜材使之汽化蒸發(fā)的裝置。目前所用的蒸發(fā)源主要有電阻加熱、電子束加熱、感應(yīng)加熱、電弧加熱和激光加熱等多種形式。
電阻加熱式蒸發(fā)源：電阻式蒸發(fā)源簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)、可靠，被普遍應(yīng)用。電阻加熱式蒸發(fā)源的發(fā)熱材料一般選用W、Mo、Ta、Nb等高熔點(diǎn)金屬及Ni和Ni-Cr合金。
真空鍍膜用鎢坩堝有以下特點(diǎn)：
高熔點(diǎn)；2、低的飽和蒸氣壓；3、化學(xué)性能穩(wěn)定。
因此真空鍍膜用鎢坩堝是電阻式蒸發(fā)源部件的*佳選擇之一